年产1000吨三氟化氮项⽬（特⽓⾏业纯度99,996%)

三氟化氮（Азот Трифторид，，化学式NF3，是⼀种强氧化剂。作为⼀种重要的⼯业特种⽓体，具有⼴泛的应⽤领域。
在微电⼦⼯业中，三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体，在半导体芯⽚、平板显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域，三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀刻⽓体和反应腔清洗剂。它还可以⽤于⾼能化学激光器，通过与氢反应在瞬间放出⼤量热来实现其应⽤.

Трифтористий азот, хімічна формула NF3, є сильним окислювачем. Будучи важливим промисловим спеціальним газом, він має широкий спектр застосувань.
У мікроелектронній промисловості трифтористий азот є чудовим газом для плазмового травлення; У напівпровідникових мікросхемах, дисплеях з плоскими панелями, оптичних волокнах, фотоелектричних елементах та інших галузях виробництва трифторид азоту в основному використовується як газ для плазмового травлення та засіб для очищення реакційних порожнин.
Його також можна використовувати у високоенергетичних хімічних лазерах, щоб досягти його застосування шляхом реакції з воднем, що миттєво виділяє велику кількість тепла. Трифтористий азот також використовується як високоенергетичне паливо, а також як окислювач і паливо при запуску ракет.